超潔凈石墨烯制備的研究
                                        
                                            	石墨烯因	其	優異	的性質而	被	譽為	“	材料之王	”	,	在諸多	領域有著廣闊的應用前景,	但	距離	真正實現產業化	還存在諸多	問題和挑戰	。制備決定	未來,	高品質	石墨烯薄膜的	可控	制備	一直是學術界和業界關注的	重點	。	化學	氣相沉積法(	CVD	)	以	其優良	的	可控性和可放大性被	公認	為最具前景的石墨烯	薄膜	制備方法,	經過	近十年的發展,	雖然	在單晶尺寸上	取得	了諸多突破性進展,	但	CVD	石墨烯的性能	和	理想	水平	仍然有不	小	的差距	,	這一問題已經困擾石墨烯領域很久	。	該研究首次	揭示了	CVD石墨烯	的本征污染問題,提出氣相反應調控的方法,分別使用泡沫銅輔助催化和含銅碳源實現了超潔凈石墨烯的制備(	Nat	ure	 	Commun	.	 2019	, 	10	, 1912	;	J. Am. Chem. Soc.	 	2019	, 	141	, 7670	)。	對于已存在	本征污染的石墨烯薄膜,他們	巧妙地	使用	二氧化碳	對其進行刻蝕	,而不引入額外缺陷,從而成功	制備出大面積的超潔凈石墨烯薄膜,該	方法與普通CVD工藝完全兼容	(	Angew	. Chem. 	2019	,10.1002/ange.201905672	)。	同時	,他們探究	了本征污染物與石墨烯之間的相互作用,發展了基于活性炭的界面力調控方法,成功實現了石墨烯的表面清潔(	Adv. 	Mater. 	2019	, e1902978	)	。
                                        
                                        
                                            北京大學
                                            2021-04-11