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產(chǎn)品詳細(xì)介紹真空干燥箱－真空度數(shù)顯示并控制

產(chǎn)品詳細(xì)介紹真空吸筆,防靜電真空吸筆QS-2008  http://www.qinsidianzi.com/

產(chǎn)品詳細(xì)介紹主要技術(shù)指標(biāo)1、練泥產(chǎn)量：30Kg/h；2、電源及功率：AC380V/2.2KW；3、真空度：-0.096MPa；4、練泥軸轉(zhuǎn)速：25r/min；5、出泥口大小：∮55mm；6、出泥含水率：19～21%。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹在科學(xué)實(shí)驗(yàn)過程中，有些物質(zhì)在大氣狀態(tài)下極易氧化和潮解，這使得試驗(yàn)物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)及樣品的前級(jí)處理非常困難，影響了試驗(yàn)過程和測(cè)試結(jié)果。真空手套箱（又稱真空惰性氣體操作箱）有效地解決了這些問題，該裝置可使試驗(yàn)樣品能夠安全的放進(jìn)和取出，并在無氧無水狀態(tài)下自如的操作、反應(yīng)和測(cè)試，確保了科學(xué)試驗(yàn)的正常進(jìn)行。該產(chǎn)品是高等院校、科研單位、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室開展科學(xué)實(shí)驗(yàn)的理想裝置，廣泛應(yīng)用于生化、冶金、電子、化工、地質(zhì)、礦產(chǎn)、醫(yī)藥等。一、 手套箱內(nèi)水氧含量在400~1000ppm的，可選用真空手套箱，采用抽真空充保護(hù)性氣體的置換方式，置換快、用氣省，比較經(jīng)濟(jì)實(shí)用。真空手套箱也可以采用常壓充、排氣的方式進(jìn)行氣體置換，采用常壓充排氣的方式比較費(fèi)時(shí)廢氣，但可以采用充排氣的方式維持手套箱的氣體氛圍。二、 手套箱內(nèi)水氧含量要求在1ppm以下的實(shí)驗(yàn)，建議在選用真空手套箱的同時(shí)，配置除氧除水系統(tǒng)，以進(jìn)一步深度除氧除水，并維持手套箱的氣體氛圍。主是對(duì)O2，H2O，有機(jī)氣體的清除，氣體介質(zhì)：N2、Ar、He等惰性氣體。保證了系統(tǒng)高效運(yùn)作和低能源消耗。主要技術(shù)指標(biāo)CLX-1真空手套箱箱體材質(zhì)：SUS304不銹鋼，厚度：6mm過渡室真空度：-0.1MPa 箱體真空度：-0.1MPa過渡室尺寸（單位：mm）：Φ220×250箱體尺寸（單位：mm）：600×500×650保壓時(shí)間：20小時(shí)以上手套口直徑：Φ145mm以上使用氣體：氬氣、氦氣、氮?dú)猓兌?9.95％以上）可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要加裝各類加熱控溫以及其它等設(shè)備CLX-2真空手套箱箱體材質(zhì)：SUS304不銹鋼，厚度：6mm過渡室真空度：-0.1MPa 箱體真空度：-0.1MPa過渡室尺寸（單位：mm）：Φ280×350箱體尺寸（單位：mm）：800×650×700保壓時(shí)間：20小時(shí)以上手套口直徑：Φ145mm以上使用氣體：氬氣、氦氣、氮?dú)猓兌?9.95％以上）可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要加裝各類加熱控溫以及其它等設(shè)備CLX-3真空手套箱 箱體材質(zhì)：SUS304不銹鋼，厚度：6mm過渡室真空度：-0.1MPa箱體真空度：-0.1MPa過渡室尺寸（單位：mm）：Φ340×400箱體尺寸（單位：mm）：1200×700×1120保壓時(shí)間：20小時(shí)以上手套口直徑：Φ145mm以上使用氣體：氬氣、氦氣、氮?dú)猓兌?9.95％以上）可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要加裝各類加熱控溫以及其它等設(shè)備  特點(diǎn)：  *不銹鋼結(jié)構(gòu)、抗腐蝕、易清洗、無污染。*觀察窗為30毫米厚有機(jī)玻璃，視角廣闊。*箱內(nèi)配照明燈泡，克服了箱外照明箱體內(nèi)有死角的缺點(diǎn)。 *箱內(nèi)配備多孔電插座，方便進(jìn)行科學(xué)試驗(yàn)。*箱內(nèi)可進(jìn)行局部加熱。*操作手套采用厚乳膠手套，密封可靠。*操作箱內(nèi)最高正壓：0.06MPa*所有規(guī)格均可根據(jù)用戶要求定做。敬告：*禁止在真空狀態(tài)下打開艙門、手套口壓蓋或進(jìn)行拆卸檢修。*內(nèi)置電源為220V、50HZ、1KW。*手套應(yīng)先于或同時(shí)于箱體抽真空，后于或同時(shí)于箱體停止抽真空。*外接氣源管件應(yīng)適配、接插應(yīng)密封牢靠，充氣時(shí)不宜超過零壓即1個(gè)大氣壓。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 真空碳管爐  ◎產(chǎn) 品 說 明  設(shè)備特點(diǎn)：  真空碳管爐主要供大專院校、科研單位在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)無機(jī)材料（如功能陶瓷、透明陶瓷、碳化硅、氧化鋯、氧化鋅、二氧化鋁等）及金屬材料（如硬質(zhì)合金）等進(jìn)行燒結(jié)處理。  技術(shù)參數(shù)：  1、型號(hào)：ZT-25-20  2、 額定功率：25KW3、最高工作溫度：2000℃  4、工作區(qū)尺寸：直徑90x120  5、極限真空度：6.67x10-3Pa6、溫度控制：熱電偶+紅外自動(dòng)控制  結(jié)構(gòu)說明：  本產(chǎn)品是由爐體、爐蓋、爐底、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等組成，占地小，易于搬運(yùn)。  1、爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，保持爐殼溫度不超過60℃.打開爐蓋裝料，爐體內(nèi)有用碳?xì)只蚪饘俑魺崞磷龀傻谋貙樱l(fā)熱元件采用石墨筒。爐體側(cè)部設(shè)計(jì)有觀察窗及熱電偶，以便進(jìn)行溫度分段自動(dòng)控制，及1700℃以下采用鎢錸熱電偶，1000℃-2000℃采用紅外傳感器。  2、真空系統(tǒng)采用二級(jí)泵，及K-159油擴(kuò)散泵與2XZ-8D直聯(lián)泵，真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。  3、電氣控制采用大電流變壓器、調(diào)壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執(zhí)行回路。電路設(shè)有斷水、過流、超溫報(bào)警及保護(hù)功能。 

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 真空鉬絲爐  產(chǎn)品編號(hào)：Cx005  ◎產(chǎn)品說明  設(shè)備特點(diǎn)：  本電爐為立式結(jié)構(gòu)，適用于金屬材料在高真空，高溫條件下進(jìn)行退火、釬焊、燒結(jié)、除氣處理，同時(shí)也適用于石英材料的脫羥處理。  技術(shù)參數(shù)：  型號(hào) 名稱 額定功率 最高工作溫度 工作區(qū)尺寸 極限真空度  ZM-25-16 真空鉬絲爐 30KW 1600℃ Ф150×200 <3×10-3Pa  ZM-36-10 真空鉬絲爐 36KW 1000℃ Ф300×400 <3×10-3Pa  ZM-40-16 真空鉬絲爐 40KW 1600℃ Ф200×280 <3×10-3Pa  ZM-45-15 真空鉬絲爐 45KW 1500℃ Ф340×400 <3×10-3Pa  ZM-45-16 真空鉬絲爐 45KW 1600℃ Ф340×400 <3×10-3Pa  ZM-66-12 真空鉬絲爐 66KW 1200℃ Ф350×600 <8×10-4Pa  產(chǎn)品采用專業(yè)技術(shù)生產(chǎn)制造的特點(diǎn)：  1. 獨(dú)有的加熱元件布置結(jié)構(gòu)，爐溫均勻好，壽命長(zhǎng)。  2. 獨(dú)有的保溫結(jié)構(gòu)，節(jié)能性，長(zhǎng)壽命。  3. 獨(dú)有的一體化水、電聯(lián)接結(jié)構(gòu)，具有故障低，調(diào)試快。維護(hù)方便的特點(diǎn)。  4. 獨(dú)有的快冷方式，能快速降低爐溫，提高生產(chǎn)效率。從1000℃降到100℃只需1個(gè)多小時(shí)。  5. 模擬操作界面及PLC適應(yīng)生產(chǎn)需要，故障低，自動(dòng)化程度高，是連續(xù)生產(chǎn)產(chǎn)品品質(zhì)的保證。 

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 ZN-20真空納米收集爐 一.說明： 納米粉末收集爐是在真空或充保護(hù)氣體狀態(tài)下，利用中頻感應(yīng)加熱的原理實(shí)現(xiàn)金屬與坩堝熔煉蒸發(fā)，然后利用一旋轉(zhuǎn)裝置收集納米級(jí)粉末的設(shè)備，節(jié)能、產(chǎn)量高、粉體粒度尺寸可控、設(shè)備操作簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)新穎，是科研院校以及科研單位實(shí)驗(yàn)室理想的制備納米粉末的設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)真空收集及真空密封。 二.主要技術(shù)參數(shù)：1.額定功率：20KW2.額定溫度：1800℃3.容量： 500g4.極限真空度：5X10-3Pa5.壓升率：≤4Pa/h 6 電源：中頻電源IGBT 三、結(jié)構(gòu)說明 本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、旋轉(zhuǎn)收集裝置、充氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)及高頻電源控制系統(tǒng)等組成： 1、爐體： 為全不銹鋼設(shè)計(jì)，爐殼采用雙層水冷結(jié)構(gòu)。 2、旋轉(zhuǎn)收集裝置：爐體上設(shè)有旋轉(zhuǎn)收集裝置，呈扇形狀。收集器的內(nèi)側(cè)設(shè)有粉末收集刀，旋轉(zhuǎn)的同時(shí)把納米粉導(dǎo)入收集瓶中。 3、真空系統(tǒng)： 采用二級(jí)泵，即k150油擴(kuò)散泵與2XZ-8D 直聯(lián)泵。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。 4、爐架：由型鋼鋼板組焊成柜架結(jié)構(gòu)，爐體安置在爐架上。 5、水冷系統(tǒng)：由各種閥、管道等相關(guān)裝置組成，并設(shè)有斷水時(shí)聲光報(bào)警、自動(dòng)切斷加熱電源功能。 6、加熱電源：電源采用最新技術(shù)（IGBT模塊），整套電源相當(dāng)于一臺(tái)電腦主機(jī)般大小，外觀小巧、節(jié)能環(huán)保。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 真空熔煉爐  產(chǎn)品說明 一、設(shè)備用途本產(chǎn)品主要供大專院校、科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。二、主要技術(shù)參數(shù)：1.電源功率：100KW2.額定電壓：380V3.中頻電壓：375V4.最高溫度：1700℃5.中頻頻率：1500-2500Hz（頻率自動(dòng)跟蹤）6.坩堝容量：25Kg（鋼液）7.極限真空度：6.67×10-3Pa8.壓升率：4Pa/小時(shí)三、結(jié)構(gòu)說明本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、爐底、坩堝回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、真空系統(tǒng)及中頻電源控制系統(tǒng)等組成。爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，保持爐殼溫度不超過60℃。爐蓋打開方式為手動(dòng)，爐蓋上設(shè)有觀察孔及擋板，為便于熔化過程中添加合金元素，爐蓋上特設(shè)有合金加料器。爐體內(nèi)有一感應(yīng)線圈，通過手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)爐外手柄可輕松將坩堝內(nèi)熔液澆入錠模，錠模可設(shè)計(jì)成水冷形式。坩堝上部設(shè)有一測(cè)溫裝置。真空系統(tǒng)采用二級(jí)泵，即K-300油擴(kuò)散泵與2X-70機(jī)械泵，機(jī)械泵上設(shè)有電磁放氣閥避免停電后返油。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。中頻電源可選擇KGPS可控硅或IGBT、全數(shù)字電路等，電氣系統(tǒng)設(shè)有過流、過壓返饋及保護(hù)電路。集成電源 

北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司，原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司，創(chuàng)立于2013年6月，主體經(jīng)營(yíng)分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制、淺藍(lán)納米科技三個(gè)部分，是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計(jì)、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的性的公司，公司擁有一支、產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。        公司于2016年初至2017年末，陸續(xù)投入大量研發(fā)資金，針對(duì)等離子增強(qiáng)化學(xué)氣象沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺(tái)設(shè)備，以及附屬配件進(jìn)行了系統(tǒng)、深入的研發(fā)、改進(jìn)工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學(xué)、科研使用，同時(shí)減少相關(guān)進(jìn)口設(shè)備的市場(chǎng)占有率，并力爭(zhēng)創(chuàng)造外匯，打出中國創(chuàng)造的名牌!        我們的客戶遍布國內(nèi)各高校和研究院所、部分軍工單位和電力試驗(yàn)所、各級(jí)的材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室，期待您就是我們的下一位客戶、朋友!        您的滿意微笑是我們一直努力追求的經(jīng)營(yíng)目標(biāo)!        維意真空，為您服務(wù)，唯你成就是我們的宣傳口號(hào)!        技術(shù)創(chuàng)新、服務(wù)誠信是我們一直遵循的經(jīng)營(yíng)理念!        我們熱誠歡迎國內(nèi)外先進(jìn)的儀器制造商及科學(xué)工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成的真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺(tái)設(shè)備供應(yīng)商。

真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長(zhǎng)，國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將 CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀(jì)七十年代末，開始出現(xiàn) PVD（物理氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn)，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了 PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相沉積）等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。