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本發明涉及間三烷氧基苯基二烷基膦四氟硼酸鹽及其合成方法和在鈀催化的碳-氯鍵活化后的Suzuki偶聯反應中的應用。本發明的間三烷氧基苯基二烷基膦四氟硼酸鹽，在反應體系中與鈀催化劑進行配位，可以高選擇性的激活惰性碳-氯鍵，并與體系中的有機硼酸發生Suzuki偶聯反應，得到對應的偶聯化合物。本發明簡潔一步合成在空氣中能穩定存在的三烷氧基苯基二烷基膦四氟硼酸鹽，與其他已知的用于碳-氯鍵活化的配體的合成方法相比，本發明的合成方法路線短，操作簡單。

NOX是四大空氣污染物（NOX，NH3，SO2，NMVOCs）之一，它們不僅可以形成酸雨、光化學煙霧，還會嚴重損害人類的身體健康，所以消除NOx是人類急需解決的一個全球性問題。CH4是天然氣的主要成分，它儲量豐富，價格低，潔凈環保，并且已經逐漸取代煤炭進行發電和供暖。CH4-SCR是目前主要的脫硝的方法之一，但是CH4的穩定性和惰性是選擇性催化還原反應過程中的一個重要難題。近幾十年來，過渡金屬特別是銦（In）被廣泛應用在CH4-SCR反應中，它的主要作用是對CH4進行有效的活化。為了提高CH4-SCR的活性，第二種過渡金屬,如Pd、Co和Ce，被引入進來，他們的主要作用是促進NO的氧化生成NO2。因此，制備優異CH4-SCR活性的催化劑具有重要的意義。本發明涉及一種用于甲烷選擇性催化還原（CH4?SCR）分子篩催化劑及其合成方法，具體是雙金屬分子篩Cr?In/H?SSZ?13和Ru?In/H?SSZ?13的合成及在甲烷選擇性催化還原（CH4?SCR）中的應用。通過浸漬方法合成，再經過Ar焙燒，H2還原，O2氧化處理得到熱力學穩定的雙金屬催化劑。在Cr?In或者Ru?In的協同作用下，在

阿普斯特是由美國 FDA 批準的首個治療銀屑病性關節炎的選擇性磷酸二酯酶 4（PDE4）抑制劑。項 目擬以 3-乙氧基-4-羥基苯乙酮為原料，通過等多步化學反應制備高光學純度阿普斯特，研究內容包括工 藝優化、實驗室放大、公斤級放大及產品質量研究。

采用“電子”作為反應試劑，以金屬[M = In, Sn, Al, Ta, Nb, Zn, Ti, Ni,等]為陽極，控制一定的陽極電極電位，分別在?－二酮（如乙酰丙酮，Hacac），醇(ROH)，或其混合溶液中電化學溶解金屬，或按照一定順序電化學溶解兩種金屬得到相應的單金屬或者多金屬有機物。具體反應為：M（金屬）＋ HL ＋電能 → ML （L＝OR，?－二酮如：Hacac）。本工藝為高純度金屬有機物（MO-CVD源）開發出一種全新“綠色化學”途徑，具有如下優勢：（1） 原材料金屬可通過電解精煉達到很高純度(>99.99%)，從源頭保證MO-CVD源的純度要求，該技術采用陽極電極電位控制特定金屬溶解，從而進一步控制雜質離子。同時該技術合成的MO-CVD源可以采用常規方法進一步提純，根據需要雜質離子可以控制在10-9 量級以下。如采用該法制備的納米TiO2（粒徑分布窄，～5 nm左右）雜質分析：Pb：0.6 ppm，As：0.5 ppm，Hg：0.09 ppm，Fe：0.21 ppm。（2） 該工藝克服了傳統化學方法合成MO-CVD源的缺點。以鈦醇鹽為例，化學法采用TiCl4 ＋ROH → Ti(OR)4,該反應由ROH逐漸取代Cl生成Ti(OR)xCly，采用氨吸收HCl形成沉淀使反應向右進行，無法得到不含Cl的Ti(OR)4，很難滿足特殊電子工業對Cl雜質要求很高的工藝要求。本技術從工藝路徑上保證了產品純度：Ti（金屬） ＋ ROH ＋電能 → Ti(OR)4，該過程未引入任何Cl雜質，可以做到絕對無Cl的MO-CVD源。 （3）該技術具有通用性。MO-CVD源屬于高附加值產品，市場變化快，本工藝采用的設備可以隨時通過更換不同金屬或者有機配體（含有活性氫配體），根據市場需要隨時實現產品的轉換，在追求高利潤的同時規避市場風險，具有投資價值。工藝路線：具體合成：1. 金屬醇鹽：如鈦醇鹽、鉭醇鹽、鈮醇鹽、銦醇鹽、錫醇鹽，銅醇鹽、鎳醇鹽等，及其穩定的金屬醇鹽?－二酮配合物。2. ?－二酮金屬鹽化合物：如乙酰丙酮金屬鹽，乙酰丙酮鋅Zn(acac)2、乙酰丙酮鐵、乙酰丙酮銦In(acac)3、乙酰丙酮銅、乙酰丙酮鉭、乙酰丙酮鈮、乙酰丙酮錫等。3. 二元金屬醇鹽?－二酮配合物：如PbTi(OR)x（acac）y，AlTi(OR)xLy，NaTa(OR)xLy，LiTa(OR)xLy等。 應用范圍：高純金屬有機物可以作為MO-CVD源，制備超高純度納米金屬氧化物。同時這些金屬有機物可以有以下用途：添加劑，熱穩定劑，催化劑，具體可用作樹脂交聯劑，樹脂硬化促進劑，樹脂、塑料、橡膠添加劑，鐵電、壓電等氧化物薄膜、超導薄膜、熱反射玻璃薄膜、透明導電薄膜等功能薄膜材料等。

本發明屬于半導體納米復合材料的制備技術領域，涉及一種利用二元前驅體合成石墨烯復合薄膜的制備方法。該發明采用簡單的兩步合成路線，通過在水熱法中合成兩元前驅體，然后經過高溫處理使四氧化三鐵納米顆粒均勻的分散在石墨烯納米薄膜的表面。相對于其他合成方法，此方法制備的石墨烯復合薄膜具有伸展更充分，Fe3O4納米粒子粒徑更均勻，分布范圍窄等優點。借助本發明提供的方法，制備出的石墨烯納米復合薄膜可作為鋰離子電池的負極材料，顯示了較高的電容量和循環穩定性。通過本發明提供的無機半導體和石墨烯復合納米材料制備方法，可制備多種不同種類的復合材料，制備出的復合材料在鋰離子電池，無機太陽能電池，藥物的靶向緩釋與治療等方向具有實際的應用前景。

研發階段/n本發明公開了一種促進靈芝酸和靈芝多糖生物合成的靈芝細胞培養方法，該方法包括將靈芝菌種接種到斜面培養基進行培養，再依次進行一級液體種子培養、二級液體種子培養和液體深層發酵，其中，在液體深層發酵過程中用可見光進行光照培養。經測定，本發明方法可有效促進靈芝細胞的生長，相比于現有的細胞培養方法，本發明方法所制備的細胞培養產物中，其靈芝酸、靈芝多糖的含量或產量都有了不同程度地提升。

研發階段/n鋁合金表面攪拌摩擦加工及加熱反應合成的復合涂層及其制備方法　　本發明涉及一種鋁合金表面Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＢ２復合涂層及其制備方法，首先，在鋁合金表面開出若干深為０．５ｍｍ～２ｍｍ，寬為０．５ｍｍ～２ｍｍ的溝槽，在溝槽中填充球磨好的含３０％～７０％ＴｉＯ２、３０％～７０％Ｂ２Ｏ３混合粉末，再通過攪拌摩擦加工，使ＴｉＯ２和Ｂ２Ｏ３混合粉末均勻分布在鋁合金的表面層中，最后對這一表面層進行感應加熱，產生化學反應３ＴｉＯ２＋３Ｂ２Ｏ３＋１０Ａｌ＝３ＴｉＢ２＋５Ａｌ２Ｏ３，獲得Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＢ２復合

成功設計并完成了該分子的首次全合成工作。該工作的關鍵步驟包括一個分子內的Pauson-Khand反應、一個二碘化釤介導的還原1,6-自由基加成反應和一個創新的大位阻反式六氫茚滿構建策略。 該路線首先從已知手性合成子6（從長葉薄荷酮 (+)-pulegone兩步轉化得到）出發，經由烷基化、聯烯鋰進攻、RCM關環和底物控制的立體選擇性氫化，順利得到含有四個手性中心的5/7并環化合物5，再經過幾步簡單的轉化就順利地構建出了前體4。 受楊震教授、龔建賢教授和藍宇教授2015年發表的Retigeranic Acid重要研究工作啟發（Chem. Eur. J. 2015, 21, 12596），化合物4的Pauson-Khand反應順利地得到了含有六氫茚骨架的化合物15，單晶衍射顯示各手性中心也正好符合要求。然而化合物15的內酯開環卻比像想象中要困難，反復嘗試后發現DBU/HMPA體系可以實現所需的消除反應，酯化后即得化合物17，經還原氧化后便可以得到構建四元環的前體3。基于該小組之前應用SmI2 介導的還原1,4-自由基加成構建四元環工作的研究基礎（Chem. Eur. J. 2016, 22, 12634），他們利用化合物3嘗試了SmI2 介導的還原1,6-自由基加成，成功構建了關鍵四元環結構。 在此階段，由于C-3/C-4是個四取代、大位阻雙鍵，并且該雙鍵的還原需要在該分子的深凹面方向進行，這使得最后階段構建反式六氫茚滿的工作充滿了艱辛。同時，由于反式六氫茚滿在熱力學上穩定性不如順式六氫茚滿，這使得自由基類型的還原可行性同樣較低。而且，由于可能的羥基消除反應以及該羥基可能處于假平伏鍵位置，單羥基誘導的均相氫化仍然不順利。于是團隊研究人員轉變思路，在C-6位增加了一個額外的羥基，再經還原得到順式二醇。該底物非常順利地在Crabtree催化劑作用下氫化得到了關鍵的反式六氫茚滿化合物24。此創新性的策略應當同樣適用于其他類似骨架的大位阻反式六氫茚滿構建。最后，再將化合物24進行幾步簡單的轉化，Astellatol的首次并且是對映專一的全合成工作終于得以完成！

通過精細調控Ge2+離子前驅體溶液與已制備的錫納米顆粒反應，合成帶隙可調的半導體錫鍺合金納米晶（0.51 eV至0.71 eV）。使用的錫納米晶模板可以大大降低反應的成核、結晶和生長的反應能壘。與以前報道的反應溫度（約300 ℃）相比，課題組的方法可以在較低的溫度下（60-180 ℃）得到錫鍺合金納米晶。課題組深入闡明了從錫到錫鍺合金納米晶的相變機理，清晰揭示了從不均勻核殼結構到均勻合金結構的演變過程。

成果與項目的背景及主要用途 一種在金屬催化下亞胺與一氧化碳共聚合成多肽類聚合物材料的新的、簡捷的方法，不用氨基酸為原料，以廉價的亞胺和一氧化碳為單體，在金屬催化下發生交替共聚，直接生成多肽，從而使合成多肽的成本大大降低。這一途徑將可以避免繁雜的合成和活化氨基酸的步驟，使得多肽的合成和傳統的方法(如開環聚合反應法)相比，被大大地簡化。所得到的多肽類材料，在生物醫學材料和制藥等領域具有重要用途。 技術原理與工藝流程簡介