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一種用于消除離面位移影響的高溫應變測量方法
2021-04-11 00:00:00
云上高博會
http://www.502d.xyz
關鍵詞：
高溫應變測量
所屬領域:
項目成果/簡介:
本發明公開了一種用于消除離面位移影響的高溫應變測量方法。本發明針對高溫下用二維數字圖像相關方法測量試件表面應變時，因試件的離面位移引起的測量誤差，提出了一種基于二維數字圖像相關的雙相機測量方法，可用于高溫環境下試件的表面應變測量。根據離面位移引起的虛應變與物距成線性關系，將試件成像于兩臺不同物距的相機，進而消除離面位移的影響，克服了傳統測量方法誤差大或硬件結構復雜的問題。
項目階段:
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